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感应耦合等离子刻蚀机
感应耦合等离子刻蚀机
仪器编号
S2305627
规格
ICP-RIE-100
生产厂家
中国科学院微电子研究所
型号
ICP-RIE-100
制造国家
中国
分类号
放置地点
唐岛湾校区工科实验楼E座E0467
出厂日期
2023-07-01
购置日期
2023-09-15
入网日期
2023-11-06

主要规格及技术指标

1.射频电源系统:进口上电极RF1000W,进口下电极 PF500W。
2.支持6英寸或以下尺寸整片以及碎片刻蚀
3.气路数量可根据户需求配置
4.配备背氦控温部件(包含软硬件)
5.铝质腔体或不锈钢腔体
6.不锈钢立柜
7.极限真空5x10-4Torr,20分钟内可以达到10-3Torr级别
8.涡轮分子泵

主要功能及特色

深硅刻蚀,硅片、聚合物等的氧等离子体刻蚀。

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期